国度常识产权局信息高慢，光子探索科技（香港）有限公司苦求一项名为“一种光刻图案化的循序”的专利，公开号CN121772587A，苦求日历为2025年11月。

专利纲目高慢，本发明提供了光刻图案化的循序，包括：S1、在单晶钙钛矿器件名义酿成一封装材料层；S2、在封装材料层上旋涂一层负性光刻胶，酿成指标图案；S3、对封装材料层上的指标图案区进行刻蚀减薄；S4、去除要领S2中旋涂的负性光刻胶，再次旋涂一层负性光刻胶，酿成中间图案；S5、对封装材料层上的中间图案区进行刻蚀减薄，od体育(中国)手机版直至指标图案对应的单晶钙钛矿器件名义显露，封装材料层上酿成纵截面呈“T”型的孔结构；S6、在该孔结构中千里积金属材料，酿成“T”型断绝结构；S7、将单晶钙钛矿器件浸泡至剥离溶剂中，去除负性光刻胶，单晶钙钛矿器件的光刻图案化完成。本发明搞定了在单晶钙钛矿光刻图案化工艺中，长技能溶剂浸泡导致溶剂渗入损坏钙钛矿材料的问题。

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